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案件記録

基于力-位置信号反馈的自调节磁流变抛光装置及方法

発明有効
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§ Ⅰ

案件概要

発明者

廖燕玲; 陈志君; 夏森彬; 许琳琳; 高镨

IPC分類

B24B 1/00 (2006.01)B24B 29/02 (2006.01)B24B 49/00 (2012.01)B24B 51/00 (2006.01)

本发明涉及超精密加工技术领域,更具体地,涉及一种基于力‑位置信号反馈的自调节磁流变抛光装置及方法,通过三向力测力仪监测加工区域磁流变液的力学性能并形成力信号,以便根据力信号判断磁流变液的加工性能,从而调节抛光速度和加工间隙,保证了加工过程具有稳定的去除函数;通过位置传感器记录抛光盘和磁流变抛光垫的位置,从而结合力信号和位置信号分析抛光盘上各区域磁流变液的力分布情况,进一步修正运行参数,提高加工稳定性。本发明通过实时监测磁流变液的性能状态,结合位置信息建立数学联系,构建抛光盘上各区域磁流变液的性能变化与分布规律,从而指导运行参数的调节,实现加工过程去除函数的稳定,最终获得具有稳定质量的加工产品。

外部リソース