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案件記録
抛光轨迹实时校正控制方法及系统
発明有効
8請求項 · 2 独立
§ Ⅰ
案件概要
発明者
许建平; 王伟; 顾海林
IPC分類
B24B 51/00 (2006.01)B24B 49/02 (2006.01)B24B 47/25 (2006.01)
本发明涉及轨迹校正控制技术领域,公开了一种抛光轨迹实时校正控制方法及系统,所述方法包括:采集待抛光曲面的多源数据,进行预处理,得到实时加工数据集;提取偏差分布特征,确定初始偏差向量,生成临时加工路径;获取临时加工路径的关键参数,并与待抛光曲面进行匹配性验证,对所述临时加工路径进行曲率优化,得到优化加工路径;提取关键路径参数,确定抛光轨迹;根据抛光轨迹,提取抛光验证结果,生成补充加工指令并执行,确定抛光调整方案;更新机械臂的运行轨迹和压力参数,结合实时响应验证和局部缺陷检测,得到抛光加工结果。本方法能够解决现有的控制方法缺乏对加工过程动态变化的感知与响应机制的问题。
外部リソース