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기록

一种超薄高遮光聚酰亚胺复合膜及其低温压合工艺

발명유효
10청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

黄秋霜; 庞道成

IPC 분류

B32B 27/28 (2006.01)B32B 27/08 (2006.01)B32B 27/32 (2006.01)B32B 27/18 (2006.01)B32B 27/30 (2006.01)B32B 33/00 (2006.01)B32B 7/12 (2006.01)B29D 7/01 (2006.01)C23C 14/06 (2006.01)C23C 14/10 (2006.01)C23C 14/30 (2006.01)

本发明公开了一种超薄高遮光聚酰亚胺复合膜及其低温压合工艺,涉及聚酰亚胺膜材料制备技术领域。所述聚酰亚胺复合膜包括透明聚酰亚胺基材层、遮光层和抗反射层;所述遮光层设置于所述透明聚酰亚胺基材层与所述抗反射层之间;所述遮光层包含纳米碳材料复合体系和含氟树脂。本发明同时提供了该复合膜的低温制备工艺及在摄像头模组中应用的低温压合工艺,压合温度低至80℃,有效避免了镜头模组的热变形问题;本发明制备的复合膜具有超薄、高遮光、低介电、耐弯折等优点,特别适用于对厚度和可靠性要求极高的微型摄像头模组。