离子束沉积设备和合金薄膜沉积方法

本申请公开了一种离子束沉积设备及合金薄膜沉积方法，涉及合金制备技术领域，首先根据预沉积的合金薄膜的厚度、合金薄膜中各合金元素的比例和各合金元素的沉积速率，计算得到各合金元素的溅射时间，继而，控制第一离子源产生第一离子束，并控制第一载台旋转，使第一载台的各个分区上的靶材循环多次旋转至第一离子束聚焦区域，被第一离子束溅射沉积到位于第二载台上的样品表面，形成合金薄膜，各个靶材与合金元素一一对应，同时配合挡板阻挡或允许靶材粒子沉积到样品表面，从而通过控制每个靶材处于目标区域被第一离子束溅射的总时间为计算得到的对应合金元素的溅射时间，实现对合金薄膜中各合金元素比例的精准调控，降低合金薄膜中杂质元素含量。