一种类金刚石涂层及其制备方法

本发明涉及一种类金刚石涂层及其制备方法，属于涂层技术领域。本发明所述制备在闭合场非平衡磁控溅射系统中进行，该系统至少配备一个钛靶、一个石墨靶以及一个线性离子源；所述制备方法包概括为，先对基材进行前处理并去除表面水分后，转移至真空室中，进行离子清洗与活化；调整偏压后开启钛靶电源，清扫靶面，沉积梯度层，关闭钛靶电源，开启石墨靶电源进行无氢沉积，沉积结束后在真空环境下随炉冷却，即得。本发明提供一种类金刚石涂层，采用石墨靶材，在不引入含氢气体和金属过渡层的情况下，利用闭合场非平衡磁控溅射技术结合线性离子源辅助沉积，制备出生物相容性极佳的DLC涂层，极大降低了因元素溶出导致的生物毒性问题。