一种可调磁控溅射环装置

本发明涉及磁控溅射技术领域，具体地说，涉及一种可调磁控溅射环装置。其包括基座和基座顶部密封安装的密封罩，所述基座与密封罩内腔之间形成真空环境，其特征在于：所述基座顶部设置有磁体腔，所述磁体腔内部形成有中心磁区和延伸磁区。本发明通过液压推杆驱动外环靶材升降，与连接组件的分区固定，在仅使用中心靶材时，可将外环靶材移至中心区域磁场与电场范围外，从源头减少边缘效应引发的无效溅射，使中心、外环靶材可按需单独或协同工作，进一步降低非工作区域靶材的损耗，提升靶材资源的精准利用率，避免外环靶材的不必要消耗，延长靶材整体使用寿命。