一种动态磁场调控系统及调控方法

本发明涉及一种动态磁场调控系统及调控方法。该系统:信号采集模块，其被配置为采集磁控溅射镀膜过程中的工艺信号；信号分析与决策模块，其被配置为对所述工艺信号进行特征提取与分析，并根据分析结果选择磁场运动模式后发出对应模式指令；轨迹规划与执行模块，其被配置为根据所述模式指令生成并执行磁场运动控制指令；以及磁场组件，其基于所述磁场运动控制指令进行磁场调控，以实现对磁控溅射镀膜过程的动态调控。本发明将靶材利用率从现有移动靶技术的40%‑45%显著提升至70%以上，且高频微动模式对初始不均匀性的打散作用，以及参数自适应模式对膜厚偏差的实时在线修正，将基材膜厚不均匀性稳定控制在±1%以内。