多腔室连续镀膜设备

本发明涉及真空镀膜技术领域，公开了一种多腔室连续镀膜设备，包括多个功能腔室和基片挂载单元，阻断机构用于控制相邻两个功能腔室之间的通断，保证基片挂载单元在不同功能腔室能独立进行各个工艺步骤与传输；每个功能腔室对应有用于搬送基片挂载单元的搬送单元；并且多个功能腔室能够进行多样性地组合，由于功能腔室的数量不同、布局所占的空间不同和基片挂载单元的运动路径不同等特点，避免了多腔室连续镀膜设备在拐角处产生相邻腔室同步搬送的限制，提高了多腔室镀膜设备的整体搬送效率，更加灵活地适配不同使用场景，提高设备的适用性与镀膜效率，并降低生产成本。