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기록
一种电解液及其应用、铜掺杂微弧氧化膜及制备方法
발명유효
10청구항 · 4 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
张欣欣; 翁龙飞
IPC 분류
C25D 11/26 (2006.01)
本发明属于合金表面改性技术领域,具体涉及一种电解液及其应用、铜掺杂微弧氧化膜及制备方法。本发明提供了一种电解液,包括复合铜源、成膜剂、表面活性剂、pH值调节剂和水;所述复合铜源包括可溶性铜盐和叶绿素铜钠。本发明以叶绿素铜络离子和铜离子作为电解液中的复合铜源,以其进行微弧氧化形成的铜掺杂微弧氧化膜中具有较高的铜掺杂量,从而提高了氧化膜的耐腐蚀性和防污性能。同时以本发明提供的电解液进行微弧氧化扩大了工作窗口,利于工业化应用。