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金属皮膜的成膜装置及其成膜方法

발명유효
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§ Ⅰ

개요

발명자

近藤春树; 稻垣功二

IPC 분류

C25D 17/00 (2006.01)C25D 5/02 (2006.01)

本发明提供一种金属皮膜的成膜装置,即使使用掩模材料反复进行成膜,也能够抑制掩模部分的塑性变形,形成期望的图案的金属皮膜。在掩模部分(65)形成有:根据规定的图案(P)贯穿掩模部分(65)而使网眼部分(64)露出的多个贯穿部分(68);以及以与各贯穿部分(68)接续的方式设置于掩模部分(65)的与电解质膜(13)相对的面上的多个凹槽(67)。成膜装置(1)还具备吸引装置(81),吸引装置(81)在掩模材料(60)与基材(B)接触的状态下,经由多个凹槽(67)吸引贯穿部分(68)的空气。