气体供给装置及处理装置

本发明涉及气体供给装置及处理装置，课题在于对等离子体生成室供给多种气体的气体供给装置中，即使是具有可燃性或腐蚀性的气体从流路泄漏的状况下，也可抑制该气体接触到构成流路的设备。作为本发明的解决手段的气体供给装置具备：第一容器，储存具有可燃性或腐蚀性的第一气体；第二容器，储存与第一气体为不同气体种类的第二气体；第一流路，供第一气体流动；第二流路，供第二气体流动；及壳体，具有收容第一容器的第一容器收容室及收容第一流路与第二流路的流路收容室。第一容器收容室及流路收容室通过分隔壁将壳体的内部分隔而形成。第一容器收容室及流路收容室皆强制地排气。