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Dossier
光刻胶匀胶方法及电子设备
InventionActive
10Claims · 2 independent
§ Ⅰ
Dossier Overview
Inventor
姜伟科
IPC Classification
G03F 7/16 (2006.01)B05D 1/00 (2006.01)B05D 1/26 (2006.01)
本发明公开了一种光刻胶匀胶方法及电子设备,光刻胶匀胶方法包括:采用涂胶头在晶圆表面按预设螺旋轨迹涂布光刻胶胶液;驱动所述晶圆旋转,以使所述胶液均匀分布于晶圆表面;其中,在涂布过程中获取胶液的粘度值η,并根据胶液的粘度值η控制涂胶头移动速度v、胶液挤出流量Q及螺旋轨迹的螺距p。本发明能够实现高粘度光刻胶的均匀铺展,降低缺陷率,提升工艺稳定性与效率。
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