基于自适应曲率分割与区域拟合的高保真数字光刻方法

本发明涉及基于自适应曲率分割与区域拟合的高保真数字光刻方法，包括：获取待处理曝光图像，对待处理曝光图像进行曲率分析以及自适应分割，获取若干子图像；根据子图像的曲率特征对子图像进行拟合，拟合包括：线性拟合、多项式拟合和局部拟合；基于拟合结果，获取三维纳米移动平台的位移路径，通过位移路径计算子图像的局部膨胀效应，并进行预处理，进一步对预处理后的子图像进行曝光，获取曝光图像。本发明通过自适应曲率分割和区域特异性拟合策略，有效解决了DMD光刻中的边缘锯齿和线宽误差问题，显著提高了复杂图案的曝光质量和尺寸精度，适用于高分辨率DMD光刻、多层图案化和自由形貌微结构制造等领域。