一种用于AMOLED面板制造的显影液及其制备方法

本发明公开了一种用于AMOLED面板制造的显影液及其制备方法，显影液按质量百分比计，包含四甲基氢氧化铵2～5%、由5‑氨基四氮唑、2‑巯基苯并噻唑和1‑氨基苯并三氮唑中至少两种组成的复合金属保护剂0.5～5%、有机羧酸盐协同剂0.5～3%、有机溶剂1～5%、表面活性剂0.01～1%、pH稳定剂0.05～0.5%、金属螯合剂0.001～0.1%，余量为超纯水，其制备方法通过在洁净环境下依序溶解各组分，并经两级过滤、脱氧（溶解氧≤20ppb）及充氮密封，得到超高洁净度（颗粒度≤25个/mL）的产品。该显影液对铝、银、钛的腐蚀速率分别低于4nm/min、3.5nm/min和1nm/min，且储存30天后性能稳定，能同步解决多金属腐蚀、显影残留与均匀性难题，显著提升AMOLED面板制造良率。