一种检测电子束横截面特性的焦面调节方法

本发明公开了一种检测电子束横截面特性的焦面调节方法，属于微纳加工技术领域。本发明为解决现有电子束表征方法无法在离焦状态下获取电子束横截面特性的问题，通过制备具有位于基片曝光面和位于基片的凹槽内或/和凸台上的多组电子束对准标记的焦面调节用芯片，实现电子束在不同平面自动聚焦与离焦，从而检测聚焦与离焦状态下的电子束斑强度分布。本发明能够准确评估电子束几何像差与焦深特性，提高电子束光刻的成像精度与工艺稳定性。