一种基于完整掩膜形态信息的目标数量确定方法和系统

本发明公开一种基于完整掩膜形态信息的目标数量确定方法，包括：S1，基于非模态掩膜自动提取精确表型，计算荚粒数；S2，确定大豆豆荚表型参数，其中，所述大豆豆荚表型参数包括基于完整掩膜计算的荚长、荚宽和面积参数，S1包括：S11，进行姿态标准化与掩膜预处理；S12，进行轴向宽度与多尺度融合密度映射；S13，进行峰检测与标记分水岭分割；S14，进行基于动态规划的拓扑一致性筛选优化与计数输出。还公开了对应的系统、电子设备以及计算机可读存储介质。