制造半导体元件的方法

提供一种制造半导体元件的方法，包括：提供基板，包括单元区以及周边区；形成晶胞触点、位元线结构以及间隔件于单元区上，其中间隔件分隔晶胞触点以及位元线结构；形成经掺杂多晶硅层于晶胞触点上，从而形成包括经掺杂多晶硅层以及晶胞触点的晶胞触点结构，其中经掺杂多晶硅层是经半导体型离子掺杂：经由使用水，对于晶胞触点结构执行第一清洗处理；以及经由使用经稀释氢氟酸或水，对于晶胞触点结构执行第二清洗处理。经由特定的清洗步骤，可避免腐蚀以及残留物残留于晶胞触点结构上，从而提升半导体元件的电子性能。