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기록

横向功率半导体器件、芯片及电子设备

발명유효
21청구항 · 4 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

乔明; 马鼎翔; 张波; 唐逢杰; 钟灿

IPC 분류

H10D 30/65 (2025.01)H10D 62/13 (2025.01)H10D 62/10 (2025.01)

本申请涉及半导体技术领域,公开了一种横向功率半导体器件、芯片及电子设备,横向功率半导体器件包括衬底以及设置在衬底上方的第一源极、第一漏极、第一栅极、第二栅极、第一隔离层和第二隔离层;其中,第一源极、第一栅极、第二栅极以及第一漏极依次排列;第二栅极包括第一栅极区域和第二栅极区域,其中,第二栅极区域相较于第一栅极区域更靠近第一漏极;并且,第一隔离层位于第一栅极区域和衬底之间,第二隔离层位于第二栅极区域和衬底之间;并且,第一隔离层的厚度小于第二隔离层的厚度。因此,上述横向功率半导体器件能够降低栅电荷和比导通电阻产生的损耗,并且还能够提高器件的击穿电压。