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기록
基于多栅极调控的3D集成短沟道IGZO薄膜晶体管及其制备方法
발명유효
10청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
詹学鹏; 张子涵; 董海涛; 李昊天; 郭婧蕊; 桑鹏鹏; 武继璇; 陈杰智
IPC 분류
H10D 30/67 (2025.01)H10D 30/01 (2025.01)
一种基于多栅极调控的3D集成短沟道IGZO薄膜晶体管及其制备方法,该晶体管包括衬底,衬底上至少设置有IGZO有源层、介质层、源极和漏极,IGZO有源层上设置有栅极堆叠结构,栅极堆叠结构中包括至少两个栅极,各个栅极独立或协同控制,实现多态输出模式。本发明采用多个栅极独立或协同调控晶体管的工作模式,通过各栅极的独立或协同控制可以实现对沟道电场的精确多级控制,对短沟道效应起到抑制作用,解决了短沟道器件性能恶化等问题,实现了器件的单片集成,提升了芯片的整体集成度,同时保持甚至超越了传统平面器件的性能,这对于存储和计算应用具有重要意义,为实现更复杂的神经形态计算功能提供了更大的自由度,适用于低能耗高密度更复杂的电路系统。