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기록
电子装置制造方法
발명유효
15청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
白文呈; 权纯庆; 金泳敏; 卢昡佑; 朴海日; 朴贤锡; 李大镐; 韩守智
IPC 분류
H10K 71/60 (2023.01)H10K 71/00 (2023.01)H10K 59/12 (2023.01)H10H 29/01 (2025.01)H10H 29/30 (2025.01)
公开是一种电子装置制造方法，其包括：形成基础层；形成电路元件层；以及形成显示元件层。形成显示元件层包括：在第一发射区域、第二发射区域和第三发射区域中的每个中形成第一阳极；在第一阳极上形成第一蚀刻停止层；在第一蚀刻停止层上形成第一绝缘层；形成第二蚀刻停止层；形成第二绝缘层；蚀刻第一绝缘层和第二绝缘层；对第一蚀刻停止层和第二蚀刻停止层进行蚀刻；以及在第一阳极之上形成第二阳极。