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案件記録

气体供给机构、半导体制造系统以及余量监视方法

発明有効
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§ Ⅰ

案件概要

発明者

长冈秀树; 成岛健索; 佐藤耕一; 柏木大幸

IPC分類

H10P 72/00 (2026.01)C23C 16/448 (2006.01)C23C 16/52 (2006.01)C23C 16/455 (2006.01)

本发明的课题在于提供一种能够高精度地识别原料的余量的技术。气体供给机构供给使原料气化得到的原料气体。气体供给机构包括:内侧容器,其收容所述原料;外侧容器,其具有能够相对位移地收容所述内侧容器的空间,并且使从所述内侧容器的所述原料产生的所述原料气体向外部流出;以及检测器,其检测所述内侧容器的重量相关的指标。在通过所述检测器来检测所述内侧容器的重量相关的指标之前,所述外侧容器的所述空间被减压至比大气压低的真空气氛。

外部リソース