半导体光刻胶清洗剂原料混合处理设备

本发明公开半导体光刻胶清洗剂原料混合处理设备，属于污水处理技术领域，包括筒体以及筒体底端的过滤液出口，筒体顶部的中间位置处固定有接收斗，接收斗一侧的切线方向设有进液管。本发明采用“拦截‑离心‑过滤”的三级递进处理模式，实现半导体光刻胶清洗剂原料混合处理的精准过滤，首先，通过筒体顶部的锥块及外周环形堰台，可直接拦截进水中的颗粒，从源头保障后续处理流场稳定，其次，借助筒内离心筒与旋转的离心叶轮，以离心力高效过滤细小颗粒，解决了传统单一处理中细小颗粒无法有效沉降的问题，最后，利用离心筒与筒体内壁之间的滤网，对离心过滤后的溢流液进行过滤，精准捕捉极细小颗粒，避免极细小颗粒穿透沉砂池进入生化处理单元。