半导体生产用废气处理装置

本发明提供了半导体生产用废气处理装置，包括箱体，所述箱体的两侧均覆盖固定有导流罩，两个所述导流罩的表面分别连接有进气连接壳和出气连接壳；所述箱体的内部设置有抽拉式的活性炭放置组件，所述活性炭放置组件铺设在废气流动的路径上；所述进气连接壳一侧的箱体和导流罩内腔中设置有导流组件，所述导流组件根据废气的流动速度调整伸展幅度，废气流速越快，所述导流组件伸展幅度越大，废气流速越慢，所述导流组件伸展幅度越小或不伸展。本发明通过引入具有气流响应特性的导流组件，解决了传统废气处理箱体中气流扩散不可控、接触效率低及吸附利用率不足等问题，在保障处理效果的同时兼顾能耗控制与设备可靠性，具有良好的工业应用价值。