一种三氯氢硅流化床的气体分布板及三氯氢硅反应器

本发明属于化工设备技术领域，公开一种三氯氢硅流化床的气体分布板及三氯氢硅反应器，包括用于水平布设在反应器壳体内部的分布板板体，且分布板板体位于反应器壳体底部进气管的正上方；分布板板体呈圆盘状，分布板板体周壁与反应器壳体内侧周壁贴合，且分布板板体与反应器壳体底部进气管呈同轴线放置；分布板板体上开设有均匀分布的多个气道，气道均与分布板板体呈同轴向放置，且气道贯穿分布板板体上下两端；气道均包括位于气道下端的进气口，进气口呈圆台状的渐扩段，且进气口沿气道轴线方向由上至下的孔径逐渐增大；有效解决了现有技术中存在着因气体沿分布板径向流动过程中压力不断衰减，进而导致分布板中心区域与边缘区域气体分布不均的问题。