一种无需激活吸氢片的制备方法

本发明公开了一种无需激活吸氢片的制备方法，包括以下步骤：(1)清洗：对钛箔基体进行清洗，去除表面脏污和氧化物；(2)镀膜前处理：将清洗后吹干的钛箔迅速转移至磁控溅射镀膜机腔体，抽真空到真空度优于4×10Pa，对钛箔基体进行原位加热处理，在200～400℃保温0.5～2h，然后降至室温；(3)镀膜：采用磁控溅射镀膜工艺在钛箔基体上制备厚度为50～300nm的Pd膜或Pd基合金膜；(4)冲压成型：对镀Pd膜或Pd基合金膜后的钛箔进行冲压获得外形尺寸1～20mm、厚0.1～0.5mm的吸氢片。本发明制备的吸氢片主要用于微电子封装领域的各类固态微波器件和组件内部氢含量的控制，在使用前无需激活，使用了吸氢片的器件和组件无需进行额外的烘烤除氢处理，提高了生产效率。