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기록
一种磁流变抛光盘、集成励磁组件的磁流变抛光装置及其使用方法
발명유효
10청구항 · 4 독립항
§ Ⅰ
개요
출원인
西安交通大学; 通用技术集团机床工程研究院有限公司
발명자
郭磊; 袁潇; 范嘉博; 候小刚; 李保震; 吴东旭; 杨树明
IPC 분류
B24B 31/112 (2006.01)B24B 31/12 (2006.01)B24B 31/00 (2006.01)B24B 41/06 (2012.01)B24B 1/00 (2006.01)
本发明公开了一种磁流变抛光盘、集成励磁组件的磁流变抛光装置及其使用方法,抛光盘包括抛光盘本体,所述抛光盘本体的内腔上表面上、沿抛光盘本体的竖向轴线环向阵列开设有多个向下延伸的动压槽,所述抛光盘本体的内壁沿其竖向轴线环向阵列布置有多个导流片,所述动压槽用于在工件处形成流体动压力,所述导流片用于改善流体域内颗粒相的分布均匀性。利用动压槽提高磁流变抛光过程中工件处的流体动压力,利用导流片提高颗粒的均匀分布,从而改善抛光后工件的表面质量,提升加工效率。