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기록
一种光阻结构的制作模具和制作方法
발명유효
10청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
黄伟; 曹宇星; 李向阳
IPC 분류
B29C 45/26 (2006.01)B29C 45/16 (2006.01)B29K 105/00 (2006.01)B29L 11/00 (2006.01)
本申请公开了一种光阻结构的制作模具和制作方法,制作模具包括第一模和第二模,第一模设有第一模槽,第二模设有第二模槽,第一模槽和第二模槽至少其一设有凸出部;第一模与第二模合模,凸出部与第一模槽和第二模槽围合形成吸光腔,凸出部与第二模槽的槽底壁之间、或者凸出部与第一模槽的槽底壁之间、或者第一模槽中的凸出部与第二模槽中的凸出部之间形成间隙腔;间隙腔用于设置透光材料以成型透光件,吸光腔用于注塑吸光材料以成型吸光件。在制作阶段无需去除在间隙处形成的透光件,减少产品制作工序,进一步降低生产成本,还可避免粉尘等颗粒对发光芯片造成污染,保障光阻结构的生产良率。