一种大面积高度有序阵列结构及其制备方法

本发明提供了一种大面积高度有序阵列结构及其制备方法，上述制备方法包括：首先，对衬底依次进行切割、清洗、烘干和表面活化处理，得到预处理后衬底；其次，在预处理后衬底表面涂覆光刻胶，并对涂覆后的光刻胶进行初步烘烤处理；再次，利用衍射光栅元件结合相干光源对光刻胶进行曝光处理，得到初始图案化光刻胶；衍射光栅元件包括多个正方形透射光栅，且多个正方形透射光栅在空间排布上整体互成30°~150°夹角；再次，对初始图案化光刻胶依次进行后烘烤、显影与定影处理，得到有序图案化光刻胶；最后，以有序图案化光刻胶为掩模对衬底进行刻蚀处理，刻蚀完成后去除残留的有序图案化光刻胶，最终在衬底上形成大面积高度有序阵列结构。