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一种具有高磁导率低铁磁共振线宽的微波铁氧体材料及其制备方法
발명유효
4조회수
10청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
李颉; 邓志忠; 张力
IPC 분류
C04B 35/26 (2006.01)C04B 35/622 (2006.01)C04B 35/63 (2006.01)H01F 1/01 (2006.01)
一种具有高磁导率低铁磁共振线宽的微波铁氧体材料及其制备方法,属于电子信息材料及微纳电子领域。所述的具有高磁导率低铁磁共振线宽的微波铁氧体为尖晶石结构;具体提供了一种通过Zn离子占据A位提升磁导率、In离子改性铁磁共振线宽的方法,制备出高磁导率、低铁磁共振线宽,同时保持高的饱和磁化强度和低的磁损耗的铁氧体材料,即磁导率μ'为700‑900,磁损耗正切tanδ为10~10,饱和磁化强度4πMs为4200Gs~4900Gs,铁磁共振线宽ΔH为80Oe~110Oe,该材料可以实现微波器件的低插入损耗、大工作带宽和小整体尺寸的优点,同时本发明也详细介绍了其制备工艺。本发明首次提出在ZnFeO中掺杂In离子,实现高磁导率和低铁磁共振线宽的目标,通过这种方式,实现了材料在高磁导率和低铁磁共振线宽的基础上,同时保持了材料的高饱和磁化强度和低磁损耗的特性,满足了5G高频通讯和集成电路系统中微波器件的应用需求,这些特性为推动无源电子元件向更紧凑、更集成、更多功能化的方向发展,提供了一个实用且有效的解决方案。