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기록
一种硫鎓盐型光致产酸剂和光刻胶组合物及其制备方法和应用
발명유효
10청구항 · 4 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
李禾禾; 王静; 安辉; 赵永红; 王雪枫; 曾成财; 毛鸿超; 肖楠
IPC 분류
C07C 381/12 (2006.01)C07D 335/16 (2006.01)G03F 7/004 (2006.01)
本发明属于光刻材料技术领域,具体涉及一种硫鎓盐型光致产酸剂和光刻胶组合物及其制备方法和应用。所述硫鎓盐型光致产酸剂具有式(1)所示结构。所述光刻胶组合物包括含有酸敏基团的聚合物树脂、具有式(1)所示结构的硫鎓盐型光致产酸剂、酸扩散抑制剂和第二有机溶剂。本发明的关键在于提供了一种具有特定结构的硫鎓盐型光致产酸剂,其阴离子部分具有噻吨环和乙炔基的共轭骨架结构,在光刻胶组合物中采用本发明提供的阴离子部分具有噻吨环和乙炔基的硫鎓盐型光致产酸剂,有利于提高其灵敏度、关键尺寸均匀性(CDU)和热稳定性以及降低线宽粗糙度(LER),得到形貌优良的光刻图案,具有良好的应用前景。