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一种有机硅改性干膜光刻胶树脂、其制备方法及应用
발명유효
4조회수
10청구항 · 7 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
杨仁鸿; 李志云
IPC 분류
C08F 220/18 (2006.01)G03F 7/075 (2006.01)C08F 220/06 (2006.01)C08F 230/08 (2006.01)
本发明属于光致抗蚀剂材料技术领域,特别涉及一种有机硅改性干膜光刻胶树脂、其制备方法及应用,所述有机硅改性碱溶性丙烯酸树脂,是由包括以下单体的原料通过自由基共聚反应制得的共聚物:含羧基烯键式不饱和单体,提供碱溶性;丙烯酸酯类单体,提供成膜性和柔韧性;丙烯酸酯有机硅单体CH=C(R)‑C(O)‑O‑(CH)‑Si(R),R代表H或CH;R代表甲基或苯基;n为2至6的整数;其中,以共聚物总重量计,所述丙烯酸酯有机硅单体在共聚物中的结构单元含量为0.001wt%至1wt%。通过共聚改性将有机硅链段化学键合到树脂骨架上,解决了物理共混的相容性问题,实现了界面性质的永久性、稳定性改良。