一种高分子基共形电磁屏蔽膜及其制备方法

本发明涉及电磁屏蔽材料技术领域，具体涉及一种高分子基共形电磁屏蔽膜及其制备方法，将热塑性高分子基体与导电填料通过熔融共混方式复合，形成高填料含量和低填料含量两种导电复合材料；将所述高填料含量和低填料含量的复合材料通过熔融共混，构建具有类双连续相结构的复合材料；将所述复合材料成型为初始片材；对所述初始片材在高于其玻璃化转变温度的条件下进行延展取向，随后在保持张力的情况下冷却定型，制得具有热收缩特性的电磁屏蔽膜，该方法从材料体系与工艺流程两方面进行创新设计，有效解决了现有电磁屏蔽材料在柔性、轻量化、大面积制备及复杂曲面共形贴合方面的不足。