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기록
氨基酸改性的MXene静电自组装薄膜及其制备方法
발명유효
7청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
张跃; 高志瑜; 廖庆亮; 赵璇; 高禄森; 徐良旭; 樊留兵; 赵树昌; 王君
IPC 분류
C08J 7/00 (2006.01)C08L 79/08 (2006.01)
本发明公开了一种氨基酸改性的MXene静电自组装薄膜及其制备方法,涉及低维材料的技术领域,本发明旨在提供一种表面改性方法,使MXene材料能够自发组装成排列致密整齐的薄膜的问题,本发明包括将MAX相材料通过湿化学刻蚀结合机械剥离得到少层MXene分散液;将所述少层MXene分散液分为两组,其中一组中加入强酸调整PH值至5,另一组中加入强碱调整PH值至9,向PH为5的一组分散液内加入赖氨酸,向PH为9的一组分散液内加入天冬氨酸,两组分散液均超声处理并在氩气环境下持续搅拌,反应4h,去离子水洗涤分散,分别得到Lys‑MXene分散液和Asp‑MXene分散液;采用层层自组装技术,将PI基底依次浸入所述Lys‑MXene分散液、去离子水和所述Asp‑MXene分散液,即可得到氨基酸改性的MXene静电自组装薄膜。