一种底部抗反射涂层树脂、制备方法及用途

本发明属于半导体技术领域，提供了一种底部抗反射涂层树脂、制备方法及用途。所述制备方法包括：取不同沸点的多种溶剂混合，获得混合溶剂；将苯乙烯类单体、含羟基的丙烯酸类单体和含醚键的丙烯酸类单体加入混合溶剂中混合均匀，得到预聚液；在预聚液中加入引发剂，加热回流进行自由基聚合反应，得到反应液；将反应液进行沉淀处理，分离出沉淀物即获得所述底部抗反射涂层树脂。通过该制备方法可以获得的底部抗反射涂层树脂黏附性好、分子量分布窄，用于193nm深紫外光刻胶制备，有效改善了光刻胶的图案分辨率和边缘粗糙度。