一种石英蚀刻液及蚀刻方法

本发明提供一种用于石英材料的蚀刻液及其蚀刻方法，该蚀刻液包含按质量百分比计的22‑28%氢氟酸、3‑6%氟化铵，以及第一添加剂椰油酰胺丙基羟磺酸甜菜碱与第二添加剂二乙二醇单己醚总添加量不超过0.5%、余量为去离子水。本发明在60℃条件下可实现约0.7 μm/min 的蚀刻速率，且在蚀刻深度达200 μm 时，石英表面粗糙度Ra仍可控制在300 nm以内。与传统HF/NH₄F体系相比，本发明显著提升了深度蚀刻时的表面光洁度与一致性，适用于MEMS、光电子器件等对微结构质量要求较高的制造场景。