用于立式热处理设备的底座以及立式热处理设备

本发明提供一种用于立式热处理设备的底座以及立式热处理设备，底座包括：本体部，其内周壁上具有第一限位部；支撑结构，与本体部连接，支撑结构具有多个沿本体部的内周壁间隔分布的第二限位部，所有第二限位部均位于第一限位部的下方，每个第二限位部均与第一限位部形成用于在竖直方向限位工艺内管的限位空间，以使工艺内管与本体部在竖直方向相对固定。本发明的底座通过在本体部上设置支撑结构，可以通过支撑结构的多个第二限位部与第一限位部形成限位空间，实现对工艺内管在竖直方向上的限位。与现有技术相比，仅通过第一限位部、第二限位部实现限位，在结构上更加简单，省去了轨道与轨道槽对齐、转动等步骤，提高了拆装效率。