玻璃基底近红外超低反射膜的制备方法

一种玻璃基底近红外超低反射膜的制备方法包括步骤：S1，将楔形片和产品的表面清洁处理；S2，将处理好的玻璃基底放入工装夹具，挂入真空镀膜机腔体内，温度设定为150℃；S3，抽真空，真空度达到1.0×10Pa，射频离子源清洗；S4，玻璃基底的第一面镀制AR膜系，Sub/38.33H 30.1L103.55H 127.3L/Air，Sub为玻璃基底，Air为空气，H表示H4膜层，L表示SiO膜层，H4膜层和SiO膜层均使用电子束蒸镀且射频离子源辅助蒸镀，H4膜层的沉积速率为0.3nm/s，SiO膜层的沉积速率为0.5nm/s；S5，第一面镀制AR膜系后，待腔体冷却至50℃以下将工装夹具取出；S6，重复步骤S1至步骤S5，在第二面镀制相同的AR膜系，楔形片在重复步骤S1时不清洁以及在重复步骤S2时不放入工装夹具。