一种基于聚焦离子束制备钽酸锂超构表面的方法

本发明涉及一种基于聚焦离子束制备钽酸锂超构表面的方法，属于微纳集成器件技术领域。所述方法包括步骤：(1)将切割好的钽酸锂薄膜进行清洗；(2)通过磁控溅射法在钽酸锂薄膜上沉积硬掩膜，沉积完成后进行退火处理；(3)使用聚焦离子束在退火后钽酸锂薄膜上刻蚀超构表面；(4)去除硬掩膜，清洗后，完成钽酸锂超构表面的制备。本发明通过对比Cr、Pt、Cr‑Pt混合、Cr/Pt分层等硬掩模材料对图像衬度的影响，发现Pt材料能够有效提升离子束二次电子图像的衬度。这一发现为钽酸锂超构表面结构的微纳加工提供了可行的掩膜设计方案，同时也为绝缘材料正电荷荷电效应的有效改善提供了新的思路。