一种射频旋转阴极镀膜设备

本发明公开了一种射频旋转阴极镀膜设备，包括有真空壳体、屏蔽壳体以及射频电源匹配器，真空壳体内侧设有连接座，两侧连接座之间连接有冷却水管、以及套设在冷却水管外侧且可转动的靶筒，靶筒内设有固定在冷却水管上的磁钢，磁钢与靶筒不接触，靶筒设有射频导电柱且射频导电柱分别与靶筒接触，屏蔽壳体内设有与冷却水管连通的导电水管，导电水管与射频导电柱之间连接有第一导电线，射频电源匹配器设有设置在屏蔽壳体上的匹配器输出导电件，匹配器输出导电件与导电水管之间连接有第二导电线，使旋转阴极体靶筒可使用陶瓷材料和绝缘材料实现旋转真空磁控溅射镀膜，可使靶材发生均匀溅射和均匀消耗，提高陶瓷材料和绝缘材料的镀膜效果。