光通信滤光片镀膜系统及镀膜方法

本发明涉及滤光片镀膜技术领域，特别是涉及一种光通信滤光片镀膜系统及镀膜方法。通过布置双光路监测组件和监控系统，能够在镀膜过程中针对两种材料的喷镀区域分别进行膜厚动态监测，并根据膜厚监测结果实时调控两修正挡板的姿态，实现滤光片镀膜厚度的实时修正，使两个监控区域薄膜分布一致，减少两种材料的光学厚度差异，提升滤光片光谱合格区域的面积，降低滤光片中心波长变化率。采用两个辅助离子源可在提高离子轰击密度的同时，提高离子轰击密度的均匀性，采用射频离子源，可以选取较低离子轰击能量，提升薄膜的各向同性，减少薄膜缺陷，降低薄膜应力。L材料电子枪和H材料电子枪在双离子源的连线两侧对称，不影响离子源正常工作。