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기록
一种反应腔的密封装置和半导体器件的加工设备
발명유효
10청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
万亿; 潘英豪; 吴凤丽; 杨天奇; 白海健; 陈庆尧
IPC 분류
C23C 14/56 (2006.01)C23C 14/54 (2006.01)C23C 16/44 (2006.01)C23C 16/46 (2006.01)C23C 16/52 (2006.01)H10P 72/00 (2026.01)
本发明公开了一种反应腔的密封装置和半导体器件的加工设备。该密封装置包括:磁场发生器,用于提供外加磁场;以及主密封件,位于所述反应腔与所述管路之间的密封槽内,所述主密封件包括具有磁性颗粒的液态金属,所述磁性颗粒沿所述外加磁场的磁力线方向链状排列,以在所述液态金属内形成内部骨架,经由含骨架的所述液态金属以在所述加热盘旋转动密封所述反应腔内的主真空区。本发明中的密封装置不仅能够在高温的半导体工艺下确保真空区域的密封性,且在超高真空中也不会污染工艺环境,而且还能够增强主密封件的单级密封压差,从而显著提升主密封件的抗剪切能力。