一种真空镀膜干法蚀刻方法

本发明公开了一种真空镀膜干法蚀刻方法，包括如下步骤：1）根据薄膜的功能属性，确定待进行蚀刻的膜层材料；2）根据待蚀刻的膜层材料，选择用于进行蚀刻工艺的蚀刻气体；3）根据选定的蚀刻气体，对待蚀刻的膜层材料进行正交试验，确定蚀刻速率；4）根据待蚀刻的膜层表面的形貌，结合蚀刻气体对应的蚀刻速率，确定蚀刻时间；5）最后，在真空环境下，对待蚀刻的膜层进行蚀刻。本发明能够降低功能性膜层表面粗糙度，使膜层表面平坦化，从而提升耐磨性能。