一种产品附着均匀的化学气相沉积设备

本发明涉及气相沉积技术领域，尤其涉及一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，其包括化学气相沉积镀膜箱和均匀进气系统，均匀进气系统包括一级均匀混气组件、二级均匀混气组件和三级均匀混气组件；一级均匀混气组件包括收口筒，收口筒上端螺接安装有第二结构盘，第二结构盘上侧固定安装有伺服电机，伺服电机输出端转动穿过至第二结构盘下侧且伺服电机输出端上固定安装有中部转轴，中部转轴上侧固定安装有上混气扇片，中部转轴中部固定安装有三组中混气扇片。本发明通过设置的均匀进气系统，用以将前驱体各项反应气体均匀混合，其中在均匀进气系统中设置有递进混气的三组均匀混气组件，大大提升了反应气体的混合均匀度。