用于增强化学气相沉积的反应腔及等离子体均匀化方法

本发明涉及气相沉积技术领域，且公开了用于增强化学气相沉积的反应腔，包括腔体主体，所述腔体主体的两端分别设置有气体入口和抽气口，所述腔体主体的内壁表面设置有绝缘屏蔽层，所述腔体主体的内壁环绕设置有磁场增强组件，靠近腔体主体内壁底部设置有载物台，所述腔体主体的内壁靠近上端设置有子电极，所述腔体主体包括圆柱形和矩形，所述载物台内部集成加热装置，磁场增强组件通过径向磁场约束等离子体，减少与腔壁的碰撞损耗，使边缘区域等离子体密度提升20%‑30%；分布式射频电极可实现分区功率调控，结合实时监测数据动态补偿，使硅片表面薄膜厚度均匀性误差控制在±2%以内。