一种溅射外延装置及其应用

本发明公开了一种溅射外延装置，包括：真空腔室；溅射单元；衬底承载单元；以及抽真空系统；所述抽真空系统，包括主真空泵组、副真空泵组和真空管路；所述主真空泵组通过阀门与所述真空腔室相连；所述副真空泵组通过所述真空管路与所述真空腔室相连，所述真空管路上设置有阀门，且所述真空管路的长径比为0.1‑30，在薄膜生长期间，使用副真空泵组和真空管路在真空腔室制造差分真空，使物理气相沉积能够在0.005‑1 Torr的宽范围工作气压下进行，将所述溅射外延装置用于生长薄膜时，可以利用副真空泵组和真空管路调控工作气体流场，实现高质量外延薄膜生长，还能避免被溅射镀膜粒子污染。