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기록

一种使用除杂剂去除再生铜熔体杂质方法及装备

발명유효
10청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

饶勇平; 张深根; 丁云集; 刘虎; 张柏林; 柴婉秋

IPC 분류

F27B 14/08 (2006.01)C22B 9/10 (2006.01)C22B 9/02 (2006.01)C22B 15/14 (2006.01)F27D 3/15 (2006.01)F27D 19/00 (2006.01)F27D 99/00 (2010.01)F27D 27/00 (2010.01)F27B 14/20 (2006.01)

本发明公开了一种使用除杂剂去除再生铜熔体杂质方法及装备,涉及再生铜除杂领域,包括杂质去除罐以及拆卸连接于杂质去除罐顶端的顶盖,所述杂质去除罐外侧固定有多个支撑架,多个支撑架顶端固定有顶部盘,所述顶部盘设置于顶盖上方,所述顶部盘顶端固定有卷绕机构,初始状态下,滤网设置于杂质去除罐内部底端,当除杂剂输入机构输入除杂剂后,促进除杂剂与熔体中的杂质充分接触和反应,使杂质形成密度较黄铜熔体轻的合金化合物,后续还可以增加聚渣剂,使杂质化合物聚集成渣并上浮至熔体表面,便于捞出,此时两个电动推杆回缩,带动滤网上升,从而将杂质捞出,整体装置结构简单,制作成本和维护成本较低。