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기록

一种检测系统、方法、调试系统、方法及缺陷检测设备

발명유효
25청구항 · 5 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

陈俊铭; 王奇; 吴昌力; 郑军

IPC 분류

G01N 21/01 (2006.01)G01N 21/23 (2006.01)G01N 21/45 (2006.01)G01N 21/55 (2014.01)G01N 21/88 (2006.01)G01N 21/95 (2006.01)

本申请涉及半导体前道检测技术领域,为一种明场检测系统及方法,具体为一种检测系统、方法、调试系统、方法及缺陷检测设备。本申请实施例提供的技术方案中,通过产生具有特定相位差的干涉信号光,并基于干涉信号光所对应的光强信息实现对于待检测对象的缺陷检测,能够准确识别纳米级别的缺陷以及不同缺陷之间的折射率/反射率以及缺陷尺寸等细微信息。相较于现有技术的检测系统,具有更高的检测灵敏度和更加简洁的光路调节过程。