一种反射式体光栅均匀性提升装置与方法

本发明公开了一种反射式体光栅均匀性提升装置及方法，采用轴向曝光剂量补偿与双光束干涉曝光的双系统协同结构。轴向曝光剂量补偿系统通过记录介质光敏波段的激光辐照与记录介质的多轴旋转运动，补偿因能量衰减造成的轴向曝光剂量分布不均。双光束干涉曝光系统则利用记录介质高透过率波段的激光和偏振光束分离器产生两束偏振态与功率可调的准直相干光，并通过调整反射镜姿态精确控制干涉角度，在经轴向曝光剂量补偿的记录介质中写入高对比度光栅结构。本发明可有效解决传统制备工艺中激光能量衰减导致的曝光剂量分布不均问题，从而保障体光栅轴向性能的一致性，有力促进高性能激光合束、脉冲压缩及光通信滤波器等需高均匀性体光栅的领域的发展。