光罩的缺陷修复方法

本发明提供一种光罩的缺陷修复方法，先确定光罩表面的缺陷的位置；然后，在光罩上涂覆光刻胶层，光刻胶层覆盖缺陷及光罩暴露的表面；接着，通过光学显微镜对缺陷进行对准，并通过可见光中的预设波长的光线对光刻胶层进行曝光处理；接着，对曝光处理后的光刻胶层依次进行烘烤处理和显影处理，以形成图形化的光刻胶层，图形化的光刻胶层暴露出缺陷；之后，以图形化的光刻胶层为掩模，通过刻蚀工艺去除缺陷。如此，通过光学显微镜对缺陷进行对准，可以精准定位光罩表面的缺陷，并通过可见光中的预设波长的光线对光刻胶层进行曝光处理，可以实现快速且精确的曝光，并可减少或者避免去除缺陷过程中对光罩的非缺陷区域造成损伤。