一种光刻掩膜版基版平面度检测装置

本申请公开了一种光刻掩膜版基版平面度检测装置，涉及光刻掩膜版基版测量技术领域；本申请包括检测机构，包括检测箱和设置在其内的激光干涉仪；传输机构，包括与检测箱连通的传输通道，所述传输通道的两端均转动设置有传输辊；本申请通过将清洁机构设置在传输路径上，实现了基版在途清洁，清洁完成后进行检测作业，清洁机构的设置，利用除静电件先行中和电荷，彻底解除污染物与基版表面的静电吸附，再通过气流吹扫件与负压抽取件构成的逆向气流，高效剥离并即时移除污染物，杜绝了清洁后的基版在转移过程中被二次污染的风险，为后续的激光干涉测量提供了一个洁净的检测表面，从而保证了平面度检测结果的准确性与可靠性。